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光刻机高压电源谐振能量回收技术：半导体制造的能效革命

引言光刻机作为半导体制造的核心设备，其高压电源系统为紫外光源（如极紫外光EUV）提供稳定能量。传统高压电源在运行中产生大量谐波，不仅

离子注入高压电源智能故障预警系统设计

在半导体制造工艺中，离子注入机的高压电源系统需提供数万至数百万伏特的稳定电压，其可靠性直接决定晶圆掺杂质量。然而，高压电源长期处于

高压电源工艺自适应技术在蚀刻设备中的创新应用

在半导体制造中，等离子体蚀刻是定义纳米级器件的核心工艺，其精度直接影响芯片的性能与良率。高压电源作为蚀刻设备的能量核心，需在复杂多

准分子激光高压电源放电稳定性控制关键技术

准分子激光器（如ArF、KrF等）作为深紫外波段的核心光源，在半导体光刻、微加工和医疗领域具有不可替代的地位。其性能直接依赖于高压电源的

光刻机高压电源辐射噪声抑制方法

光刻机作为半导体制造的核心设备，其高压电源的辐射噪声会干扰精密光学系统和控制电路，导致晶圆曝光缺陷。辐射噪声主要源于开关电源的高频

离子注入高压电源动态电压补偿系统的关键技术与应用价值

在半导体制造工艺中，离子注入设备是定义芯片电学特性的核心装备，其高压电源（通常输出达–40 kV、400 W）需维持极高稳定性。然而

静电卡盘高压电源介质界面优化研究

静电卡盘（Electrostatic Chuck, ESC）作为半导体制造中的核心部件，其性能依赖于高压电源与介质界面的协同作用。介质界面作为静电场传递

准分子激光高压电源重复精度提升方案

准分子激光器作为深紫外波段的核心光源，在光刻、精密医疗及微纳加工等领域不可或缺。其性能高度依赖高压电源的重复精度——即输出脉冲能量

光刻机高压电源瞬态恢复特性研究

在半导体制造领域，光刻机的精度直接决定芯片的线宽极限与良率。作为光刻机的动力心脏，高压电源的瞬态恢复特性（即负载突变后电源恢复到设