技术资源

离子注入高压电源的梯度升压动态控制技术

离子注入技术作为半导体制造的核心工艺，其精度直接影响器件的电学性能和良率。随着半导体器件尺寸进入纳米级，传统高压电源的静态输出模式

高压电源在静电卡盘应用中的瞬态电弧抑制算法研究

静电卡盘作为半导体制造、平板显示等精密设备的核心部件，依赖高压电源（通常为数千伏）产生静电场以吸附晶圆。然而，高压环境下的瞬态电弧

量子化稳压技术：开启电镜高压电源新纪元

在电子显微镜（EM）技术领域，高压电源的稳定性直接决定了成像质量的上限。现代透射电镜（TEM）的分辨率已突破至亚埃级（0 1 nm），而扫描

蚀刻设备高压电源工艺窗口扩展技术研究

在半导体制造中，等离子体蚀刻是决定微观结构精度的核心工艺，其工艺窗口（即允许参数波动的范围）直接影响器件的良率和性能。高压电源作为

离子注入高压电源的智能功率分配技术

1 离子注入工艺对高压电源的核心需求离子注入是半导体制造中的关键工艺，通过将高能离子注入晶圆，改变材料的电学特性。该过程要求高压

静电卡盘高压电源表面改性对吸附性能的影响机制

引言静电卡盘（Electrostatic Chuck, ESC）作为半导体制造中的关键部件，依赖高压电源产生的静电场吸附晶圆。其性能直接影响刻蚀、离子注

电镜高压电源超导储能供电方案：高精度与高稳定性的技术革新

在电子显微镜（电镜）等高端科研设备中，高压电源的稳定性直接决定了成像质量与数据精度。传统电源系统受限于响应速度、能量损耗及电压波动 

等离子体蚀刻设备中高压电源的动态阻抗匹配技术

在半导体制造中，等离子体蚀刻设备的稳定性直接决定晶圆加工的精度与良率。蚀刻工艺依赖高频高压电源（通常为13 56MHz 60MHz）激发反应腔体 

准分子激光高压电源脉冲串优化技术及应用

在准分子激光系统中，高压电源的脉冲串质量直接决定了激光输出的稳定性、效率及应用精度。传统高压电源受限于开关器件的性能，难以同时满足