技术资源

静电卡盘高压电源多区域独立控制的技术演进与应用价值

在半导体制造向更高精度、更大晶圆尺寸演进的过程中，静电卡盘（ESC）作为晶圆固定与温控的核心装置，其性能直接影响刻蚀、薄膜沉积等工艺

电镜高压电源亚纳米级稳定技术

电子显微镜（电镜）的分辨率已突破亚纳米级（<0 2纳米），成为材料科学、生命科学等领域解析物质原子结构的关键工具。这一成就的基石是高压

高压电源工艺参数耦合在蚀刻设备中的核心作用

在半导体制造中，等离子体刻蚀是纳米级图形转移的关键工艺，其精度直接决定器件的性能与良率。高压电源作为等离子体的能量来源，通过精准调

准分子激光高压电源电极寿命延长的关键技术路径

准分子激光器作为深紫外波段的核心光源，在半导体光刻、医疗消融等领域不可替代。其高压电源电极在含氟等离子体的高频放电环境中面临严重腐

光刻机高压电源故障快速定位技术研究

光刻机作为半导体制造的核心装备，其高压电源系统（输出范围通常达数万至数百万伏特）的稳定性直接影响晶圆曝光精度。该电源长期处于高负载

电镜高压电源超低EMI屏蔽结构的技术解析

电子显微镜（电镜）的分辨率与成像质量高度依赖其高压电源的稳定性。外部电磁干扰（EMI）会导致电子束偏转、图像模糊甚至数据失真。因此，

蚀刻设备高压电源动态偏置调节：精密控制的核心突破

在半导体制造中，等离子体刻蚀工艺的纳米级图形转移精度直接决定器件的性能和良率。高压电源作为等离子体的能量来源，其动态偏置调节能力成

准分子激光高压电源放电通道优化的关键技术路径

准分子激光器作为深紫外波段的高功率光源，在光刻、微加工等领域具有不可替代的地位。其性能核心依赖于高压电源放电通道的稳定性与效率。放

光刻机高压电源多电平转换技术的应用突破

光刻机作为集成电路制造的核心设备，其曝光精度直接依赖于高压电源的稳定性与纯净度。传统两电平电源方案存在输出电压纹波大、动态响应慢、