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一、高重复频率下的技术挑战准分子激光器(如ArF、KrF等)在半导体光刻、精密微加工等领域需实现kHz级高重复频率运行(通常达4–6kHz
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光刻机作为半导体制造的核心装备,其精度直接决定芯片的纳米级结构。在光刻工艺中,高压电源为深紫外(DUV)或极紫外(EUV)光源提供驱动能
离子注入技术是半导体制造的核心工艺,其精度直接影响器件的电学特性与可靠性。高压电源作为离子注入系统的动力心脏,其效率优化成为突破半
静电卡盘作为半导体制造、精密仪器组装等领域的关键设备,其稳定运行直接关系到工艺精度与良品率。高压电源作为静电卡盘的核心动力源,其工
金莎9001zz以诚为本高压电源行业的领军者